高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)是通过脉冲等离子体放电从标准磁控管中沉积薄膜。其绝大多数的沉积材料是以带电离子的形式到达被处理选件上。 镀膜材料以电离的形式沉…详情详情标签 HiPIMS