高功率脉冲磁控溅射电源是一类高功率密度的脉冲等离子体电源，极大的改善薄膜沉积工艺。采用高功率脉冲电源的磁控溅射，极大的提高等离子体密度，从而加快了薄膜沉积速率，可以形成致密，光滑且高附和的高质量薄膜。
HOIZY提供基于高功率脉冲磁控溅射的高能脉冲电源，配合先进的过程控制，为客户提供最先进的薄膜工艺。
高功率脉冲磁控溅射电源
单极性脉冲源
| HiPSTER 1： | 参数 | 指标 |
| 平均功率 | 1000 W | |
| 峰值电压 | 1000 V | |
| 峰值电流 | 100 A | |
| 脉冲频率 | 1 Hz-10 KHz | |
| 脉冲宽度 | 2.5 ~ 1000 µs | |
| 调整模式 | 电压，电流，功率，脉冲电流 |
| HiPSTER 6： | 参数 | 指标 |
| 平均功率 | 6000 W | |
| 峰值电压 | 1000 V | |
| 峰值电流 | 600 A | |
| 脉冲频率 | 1 Hz – 10 KHz | |
| 脉冲宽度 | 2.5 ~ 1000 µs | |
| 调整模式 | 电压，电流，功率，脉冲电流 |
*以上高压脉冲电源为标准型号，可根据用户需求提供半定制，与定制.
| HiPSTER 10： | 参数 | 指标 |
| 平均功率 | 10 KW | |
| 峰值电压 | 1000 V | |
| 峰值电流 | 1000 A | |
| 脉冲频率 | 50 Hz-10 KHz | |
| 脉冲宽度 | 3.5 ~ 1000 µs | |
| 调整模式 | 电压，电流，功率，脉冲电流 |
| HiPSTER 25： | 参数 | 指标 |
| 输出功率 | 25 KW | |
| 工作模式 | 单极性HiPIMS、双极性HiPIMS、脉冲直流 | |
| 峰值电压 | 1000 V | |
| 峰值电流 | 1500 A | |
| 脉冲频率 | 50 Hz-10 KHz （最高到150 kHz） | |
| 脉冲宽度 | 3.5 ~ 1000 µs | |
| 调整模式 | 电压，电流，功率，脉冲电流、脉冲电荷 |
Ionautics HiPIMS电源主要特点
- 高鲁棒性、提供极稳定的放电过程（恒定的放电电压、无不希望振荡）
- 支持外同步、多设备协同
- 基于新的切换技术，最高重频10 kHz
- 可以匹配宽范围尺寸的靶材、以及不同类型的反应过程（包括：reactive HiPIMS）
- 实时监测反应过程的电压与电流
Ionautics HiPIMS电源的主要应用
- 硬涂层（Hard Coating）:通过反应物沉积形成更光滑、更致密的化合物涂层；以达到增加表面硬度、更耐腐蚀、降低摩擦等作用
- 光学涂层（Optical Coating）：改善光学性能；如：更平滑的表面、更致密的结构
- 扩散屏障（Diffusion barriers）：HiPIMS形成的更高涂层密度，确保更有效的屏障效果
- 电气涂层（Electrical Coating）：改善导电性，以至可以降低涂层厚度和减少热负荷；当然，也可以改善绝缘性能
- 3-D涂层（3-D Coating）：在复杂形状的表面形成均匀的薄膜涂层
