高功率脉冲磁控溅射电源是一类高功率密度的脉冲等离子体电源,极大的改善薄膜沉积工艺。采用高功率脉冲电源的磁控溅射,极大的提高等离子体密度,从而加快了薄膜沉积速率,可以形成致密,光滑且高附和的高质量薄膜。
HOIZY提供基于高功率脉冲磁控溅射的高能脉冲电源,配合先进的过程控制,为客户提供最先进的薄膜工艺。
*以上高压脉冲电源为标准型号,可根据用户需求提供半定制,与定制.
Hoizy 根据用户涂层需求,譬如:增加硬度,减少摩擦,防止材料扩散,覆盖复杂的结构,相位特定延迟材料,增加耐磨性等。为客户提供和定制合适高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)系统。同时,我们提供以下典型的涂层过程控制方案: