双极性脉冲磁控溅射源

HIPIMS Power Supply

双极性脉冲磁控溅射电源是基于新一代磁控溅射技术，在极富经验的沉积专家努力下，设计出在等离子工艺开发和薄膜沉积方面拥有初设的追索性能，以生成稳健且可重复的 HiPIMS 工艺。

主要特设

固有离子加速功能
双极性电源实现离子加速，无需附加基板偏置
极强的稳定性和鲁棒性
特有的放电过程控制，具有恒定的电压以及干净的波形（无振荡）
支持外部触发
支持外部触发控制，可通过主从配置，实现多台级联使用
与直流电源松耦合
双极性的Biploar Hipster可以匹配任意的前级直流电源（正负DC直流源各一台），也可以匹配Ionautics的专用直流电源。
反应过程控制
“反应过程控制”选件，可以帮助过渡模式的稳定运行，对保持化学计量组成的反应气流具有较大的容忍。

双极性脉冲源主要参数

HiPSTER 输出

平均功率：1000W
峰值电流：100A
调整模式：电压、电流、功率、脉冲电流
脉冲频率：50 – 10 KHz （外部触发时，重复频率范围更宽）
起弧控制：< 2 us 反应时间

负脉冲指标

输出峰值电压：1000 V
输出峰值电流：100 A
输出脉冲宽度：3 us ~ 1000 us

Hipster尺寸

19寸机箱（3U）
135 mm (H) x 483 mm (W) x 390mm (D)
净重：16 KG

HiPSTER 输入

供电电源：单相，100-240 VAC，50/60 Hz
功耗：230V@0.3A
直流充电输入：1000V(max)
触发输入：5V CMOS
远程通信：RS-232

正脉冲指标

输出峰值电压：300 V
输出脉冲宽度：1.5 us ~ 500 us
输出脉冲延迟：1.5 us ~ 500 us（基于负脉冲结束）