纳米团簇粒子源

纳米团簇粒子源基于长期纳米粒子研究领域的创新设计,通过标准的馈管和可更换的阴极靶实现快速的安装使用,广泛应用于各类高真空的纳米离子源应用领域。

针对HIPIMS  脉冲磁控溅射源的增加脉冲功率输出做了极大的提高和优化。

主要特设
  • 空心的阴极结构,最大限度的提高靶材的电离和纳米粒子的生长
  • 相比基于传统的磁控管粒子源,HiPNano 纳米团簇源具有更高的纳米粒子生长速率
  • 极易更换的空心阴极靶
  • 经过了大量的靶材的测试与实验
  • 纳米粒子团簇含净负电荷,可以实现粒子的精确位置引导
HiPNano主要参数

纳米粒子

尺寸:< 5 nm ~ > 100 nm
材料:可溅射类材料
沉积速率:16 mg/h @ 150W
沉积面积:10 * 10 cm

脉冲参数

平均功率:< 100 V
脉冲频率:300 ~ 2000 Hz
脉冲长度:30 ~ 100 us

Hipster尺寸

19寸机箱(3U)
135 mm (H) x 483 mm (W) x 390mm (D)
净重:16 KG

空腔参数

高真空
工作压力:≈ 0.8 托
真空区域长度:不低于26 cm
安装固定:25 mm 输入馈管

机械尺寸

体积:580 * 100 * 100 mm
重量:3 KG
主要应用领域
  • 太阳能电池板
  • 能量存储系统(电池)
  • 能量转换领域(催化,水分解等)
  • 传感器技术
  • 医疗领域(例如:造影剂)
  • 智能窗户
沉积效果
菜单