高功率脉冲磁控溅射同步系统

该HiPIMS同步系统可以对所有的单极性/双击脉冲磁控溅射电源以及偏置电源进行统一同步。

该灵活的同步系统最多可同时同步控制8台脉冲磁控溅射电源,帮助最终用户实现控制脉冲输出串序列自定义、同步、以及精准延迟。同时,该同步系统也支持外部触发。

主要特设
  • 最多可同时同步8台HiPster脉冲磁控溅射电源
  • 可设置具有固定频率、固定脉冲数的脉冲串序列
  • 可在多台脉冲磁控溅射电源之间实现脉冲串序列的同步和时延
  • 内置触发模块,可以触发同步其他外设
  • 支持外部触发,可被其他的主设备同步
  • 可用于多个磁控管的同时复合溅射
  • 通过精准同步与延迟基板偏置,实现在对不同离子种类在不同时间到达基板。
  • 通过外触发,实现脉冲磁控溅射的过程同步诊断
HiPIMS同步系统参数

机械尺寸

外壳尺寸:19寸机箱(1U)
长宽高:44 mm (H) x 483 mm(W) x 90 mm (D)
重量:1 KG

工作环境

工作温度: +5°C to + 25°C
储存温度:-25°C to +55°C
相对湿度:最大85% (non-condensing)
大气压:80 kPa to 106 kPa
制冷:风冷

输入指标

输入供电:1 phase + N, 100-240 VAC, 50/60 Hz
供电电流:0.07 A
触发:  5V CMOS
HiPIMS同步系统
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