该HiPIMS同步系统可以对所有的单极性/双击脉冲磁控溅射电源以及偏置电源进行统一同步。
该灵活的同步系统最多可同时同步控制8台脉冲磁控溅射电源，帮助最终用户实现控制脉冲输出串序列自定义、同步、以及精准延迟。同时，该同步系统也支持外部触发。
脉冲磁控溅射同步系统
主要特设
- 最多可同时同步8台HiPster脉冲磁控溅射电源
- 可设置具有固定频率、固定脉冲数的脉冲串序列
- 可在多台脉冲磁控溅射电源之间实现脉冲串序列的同步和时延
- 内置触发模块，可以触发同步其他外设
- 支持外部触发，可被其他的主设备同步
- 可用于多个磁控管的同时复合溅射
- 通过精准同步与延迟基板偏置，实现在对不同离子种类在不同时间到达基板。
- 通过外触发，实现脉冲磁控溅射的过程同步诊断
HiPIMS同步系统参数
机械尺寸
外壳尺寸：19寸机箱（1U）
长宽高：44 mm (H) x 483 mm(W) x 90 mm (D)
重量：1 KG
长宽高：44 mm (H) x 483 mm(W) x 90 mm (D)
重量：1 KG
工作环境
工作温度： +5°C to + 25°C
储存温度：-25°C to +55°C
相对湿度：最大85% (non-condensing)
大气压：80 kPa to 106 kPa
制冷：风冷
储存温度：-25°C to +55°C
相对湿度：最大85% (non-condensing)
大气压：80 kPa to 106 kPa
制冷：风冷
输入指标
输入供电：1 phase + N, 100-240 VAC, 50/60 Hz
供电电流：0.07 A
触发: 5V CMOS
供电电流：0.07 A
触发: 5V CMOS
HiPIMS同步系统
