高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）是通过脉冲等离子体放电从标准磁控管中沉积薄膜。其绝大多数的沉积材料是以带电离子的形式到达被处理选件上。

镀膜材料以电离的形式沉积具有的优势是在整个过程中可以通过电场和磁场来控制。